玻璃镀膜就是在玻璃表面涂渡一层或多层金属膜或金属化合物，以改变玻璃光学性能。
玻璃镀膜的方法分为四类：化学沉积法、热蒸发镀、机械(包括喷涂和浸渍两种方法)以及目前比较先进的磁控贱射镀膜。这些技术的原理和设备都不一样，也不能互换。 镀膜玻璃生产方法都是在玻璃表面涂以金、银、铜、铝、镍、铁锡等金属，金属氧化物或非金属氧化物薄膜：或采用电浮法、等离子法，像玻璃表面层深入金属离子以置换玻璃表面层原有的离子而形成的阳光控制镀膜。 镀膜前清洗镀膜前清洗的主要污染物是油污、手印、灰尘等。由于镀膜工序对镜片洁净度的要求极为严格，因此清洗剂的选择是很重要的。在考虑某种清洗剂的清洗能力的同时，还要考虑到他的腐蚀性等方面的问题。分为有机溶剂清洗和半水基清洗。
有机溶剂清洗采用的清洗流程如下： 有机溶剂清洗剂（超声波）-水基清洗剂（超声波）-市水漂洗-纯水漂洗-IPA（异丙醇）脱水-IPA慢拉干燥。
半水基清洗采用的清洗流程如下： 半水基清洗剂（超声波）-市水漂洗-水基清洗剂-市水漂洗-纯水漂洗-IPA脱水-IPA慢拉干燥 真空蒸发镀膜是将被镀零件和膜层材料，以一定的相对位置，放在一个真空空 间，采用一定的方法，使膜料气化或升华，形成具有一定动能的分子(原子或离子)，离开蒸发器飞向被镀零件表面，在表面上淀积形成薄膜。
真空蒸发包括三个主要系统：真空系统、蒸发系统、膜厚监控系统。其中真空系统由真空室、机械泵、分子泵（油扩散泵）、管道、阀门、真空测量装置等部分组成。蒸发系统采用电子枪蒸发，其主要由灯丝、高压线圈、偏转线圈、坩埚等组成。膜厚监控系统采用光电极值法，其主要由光源、比较片、单色仪、光电倍增管、膜厚控制仪及稳流稳压电源组成。 磁溅射是先对玻璃进行清洗，在高真空仓室的靶材贱射区经过靶材离子贱射而镀膜的。
玻璃镀膜的方法分为四类：化学沉积法、热蒸发镀、机械(包括喷涂和浸渍两种方法)以及目前比较先进的磁控贱射镀膜。这些技术的原理和设备都不一样，也不能互换。 镀膜玻璃生产方法都是在玻璃表面涂以金、银、铜、铝、镍、铁锡等金属，金属氧化物或非金属氧化物薄膜：或采用电浮法、等离子法，像玻璃表面层深入金属离子以置换玻璃表面层原有的离子而形成的阳光控制镀膜。 镀膜前清洗镀膜前清洗的主要污染物是油污、手印、灰尘等。由于镀膜工序对镜片洁净度的要求极为严格，因此清洗剂的选择是很重要的。在考虑某种清洗剂的清洗能力的同时，还要考虑到他的腐蚀性等方面的问题。分为有机溶剂清洗和半水基清洗。
有机溶剂清洗采用的清洗流程如下： 有机溶剂清洗剂（超声波）-水基清洗剂（超声波）-市水漂洗-纯水漂洗-IPA（异丙醇）脱水-IPA慢拉干燥。
半水基清洗采用的清洗流程如下： 半水基清洗剂（超声波）-市水漂洗-水基清洗剂-市水漂洗-纯水漂洗-IPA脱水-IPA慢拉干燥 真空蒸发镀膜是将被镀零件和膜层材料，以一定的相对位置，放在一个真空空 间，采用一定的方法，使膜料气化或升华，形成具有一定动能的分子(原子或离子)，离开蒸发器飞向被镀零件表面，在表面上淀积形成薄膜。
真空蒸发包括三个主要系统：真空系统、蒸发系统、膜厚监控系统。其中真空系统由真空室、机械泵、分子泵（油扩散泵）、管道、阀门、真空测量装置等部分组成。蒸发系统采用电子枪蒸发，其主要由灯丝、高压线圈、偏转线圈、坩埚等组成。膜厚监控系统采用光电极值法，其主要由光源、比较片、单色仪、光电倍增管、膜厚控制仪及稳流稳压电源组成。 磁溅射是先对玻璃进行清洗，在高真空仓室的靶材贱射区经过靶材离子贱射而镀膜的。
